富士胶片在“nano tech2011 国际纳米技术综合展·技术会议”（2011年2月16～18日，东京有明国际会展中心）上展出了旨在替代ito的透明导电材料。其特点是不使用光刻胶即可曝光和剥离。与现有ito电极成型时相比，能够缩短工艺数量。适用于触摸面板、太阳能电池及电子纸等的电极。

　　此次的导电材料是将金属纳米粒子分散到具备光刻胶功能的溶剂中制成的。仅通过采用光掩模进行曝光与剥离，即可形成布线。线宽/线距（l/s）可达到30μm。材料单体的特性为薄膜电阻值为100ω/□时、光透射率高达约98％。

 

报道中未提及何种金属材料，笔者通过透光率猜测应该还是氧化铟锡通过研磨制成的100nm尺寸粒径材料，再使用阴离子分散剂进行分散；此外猜测，成膜树脂当中可能有含氨基的树脂。

　　现已研制出溶液型和薄膜型两种产品。据富士胶片介绍，计划2011年内开始样品供货，争取2012年实现量产。

                                                                

如果此发明物在性能上不低于传统溅射ito阳极，笔者认为很容易被下游器件客户接受。也再次证明光刻工艺是平板显示行业当中效率最高的工艺制成之一。

                                                                ——（消息由惠乐光电撰写编辑）